786 為低磷化學鍍鎳工藝，有極佳的穩定性。鍍層柔韌好，有較高的熔點（1250 ℃），很高的硬度（640 - 700 HV100），導電率好，適用于釬焊性要求高及一般工程的使用，沉積速率 15 - 20μm/h，很寬的溫度范圍 60 - 85 ℃，它用途廣泛，可用在含碳鋼、不銹鋼、銅合金、鈦、鋁合金及絕緣體如塑料和陶瓷品上。786 工藝穩定性好，操作及維護簡單，786 工藝分別以 786A 和 786B 配制新槽，以 786B 和 786C 為補充劑維護鍍液，長期停產時加入 786 調整劑以穩定鍍液。
